商业秘密则没有对公众使用的限制，只有对未经授权的泄露和使用可以采取法律行动。商业秘密则无需注册和支付费用，只需要确保保密措施的有效性。商业秘密的保护则需要依赖于保密协议或保密约定来约束涉及商业秘密的相关方。
专利和商业秘密在保护知识产权方面有一些不同之处，主要表现在以下几个方面：
1. 公开性：专利需要向专利局公开并注册，成为公开的技术信息。而商业秘密则是企业自己掌握的机密信息，只有企业内部知晓。
2. 保护期限：专利拥有一定的保护期限，通常为20年，之后技术信息会变成公共领域的知识。商业秘密则没有固定的保护期限，只要保持秘密不被泄露，就可以持续保护。
3. 公众利用权：专利保护的技术信息向公众公开，但专利持有人可以限制他人对其技术的使用、制造、销售等权利。商业秘密则没有对公众使用的限制，只有对未经授权的泄露和使用可以采取法律行动。
4. 获得保护的要求：获得专利保护需要满足技术创新性和工业实施性等要求，同时需要支付申请费用。商业秘密则无需注册和支付费用，只需要确保保密措施的有效性。
5. 保护手段：专利侵权可以通过诉讼等法律手段进行保护，专利持有人可以要求侵权行为停止并获得赔偿。商业秘密的保护则需要依赖于保密协议或保密约定来约束涉及商业秘密的相关方。
综上所述，专利和商业秘密在公开性、保护期限、公众利用权、获得保护的要求和保护手段等方面存在明显的差异。