商业秘密与专利是两种不同的知识产权保护方式。而专利指的是针对发明性技术所提出的申请，获得授权后获得对该技术的独占权。而专利申请人必须向公众和有关机构披露完整的技术内容，以获取专利保护。而专利需要提交申请，并经过审查程序决定是否授予专利权。总体而言，商业秘密注重机密性和控制措施，专利注重公开和专利权的获取。
商业秘密与专利是两种不同的知识产权保护方式。它们之间的不同之处主要表现在以下几个方面：
1. 内容：商业秘密指的是商业实体拥有的非公开的商业信息，例如商业计划、客户列表、制造流程等。而专利指的是针对发明性技术所提出的申请，获得授权后获得对该技术的独占权。
2. 披露要求：商业秘密无需公开披露，只需保持其秘密性即可。而专利申请人必须向公众和有关机构披露完整的技术内容，以获取专利保护。
3. 保护期限：商业秘密的保护期可以长达无限期，只要能够保持秘密性。而专利的保护期通常为20年，在此期限届满后，该技术将进入公共领域。
4. 审查程序：商业秘密无需通过审查程序来获得保护，但需要采取合理的安全措施来确保其保密性。而专利需要提交申请，并经过审查程序决定是否授予专利权。
5. 获得权利：商业秘密保护主要依靠法律的规定和合同的约定，商业实体可以通过控制保密信息来保护其商业利益。而专利权是由政府所授予的，获得专利权后可以通过法律手段来保护自己的技术。
总体而言，商业秘密注重机密性和控制措施，专利注重公开和专利权的获取。选择商业秘密还是专利取决于对技术的保护需求、商业模式和商业利益等因素的综合考虑。