而实用新型创造性差异要求相对较低，只要有新的形状、结构或组合即可。而实用新型则是对现有技术的改进、优化或应用，技术进步程度相对较低。需要注意的是，以上差异表现以中国的专利制度为基础，其他国家或地区的专利法规可能会存在差异。在具体申请时，建议参考当地的法律法规和专利局的规定。
以下是发明和实用新型的主要差异表现：
1. 创造性差异：发明创造性差异更高，要求对现有技术有实质性突破，解决问题的新方法或新组合。而实用新型创造性差异要求相对较低，只要有新的形状、结构或组合即可。
2. 技术进步程度：发明属于技术的重大突破，能够实现全新的技术水平或解决重大技术问题。而实用新型则是对现有技术的改进、优化或应用，技术进步程度相对较低。
3. 专利保护期限：发明的专利保护期一般为20年，实用新型的专利保护期一般为10年。
4. 对申请要求的要求：发明对申请要求的严格程度更高，需要进行详细的技术描述、权利要求和附图。而实用新型对申请要求较为宽松，只需要进行简要的描述即可。
需要注意的是，以上差异表现以中国的专利制度为基础，其他国家或地区的专利法规可能会存在差异。在具体申请时，建议参考当地的法律法规和专利局的规定。